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用于 CMP 漿料的 AccuSizer系統(tǒng)

 更新時(shí)間:2024-04-03  點(diǎn)擊量:2176

摘要:化學(xué)機(jī)械拋光/平坦化 (CMP) 是一種廣泛用于微電子行業(yè)的工藝,通過(guò)化學(xué)力和機(jī)械力的結(jié)合來(lái)平滑表面。該工藝使用磨蝕性和腐蝕性的漿料來(lái)幫助平整晶片表面。CMP漿料是納米級(jí)磨粒和其他化學(xué)品的復(fù)雜混合物,包括表面活性劑、pH 調(diào)節(jié)劑、氧化劑、有機(jī)酸和絡(luò)合劑。磨料的粒度分布是以多種方式影響整個(gè)過(guò)程的關(guān)鍵參數(shù)。磨料平均尺寸和分布寬度會(huì)影響材料去除率(MRR)。


大顆粒計(jì)數(shù)(LPC) 的存在會(huì)導(dǎo)致劃痕和缺陷,從而對(duì)產(chǎn)量產(chǎn)生有害影響。LPC 本質(zhì)上是分布的右側(cè)(較大)尾部,通常被描述為顆粒濃度,單位為counts/mL > 1 µm,盡管確切的尺寸范圍因應(yīng)用而異。不同的分析技術(shù)用于測(cè)量平均大小和尾部。沒(méi)有任何一臺(tái)儀器可以在整個(gè)動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)提供所有所需的數(shù)據(jù)。動(dòng)態(tài)光散射(DLS)通常用于測(cè)量平均尺寸,而單粒子光學(xué)傳感技術(shù)(SPOS)用于測(cè)量 LPC 尾部。


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平均粒度與尾端大顆粒

圖1顯示了通過(guò) CMP 漿料中使用的四種磨料的動(dòng)態(tài)光散射測(cè)量的平均粒度:二氧化硅、二氧化鈰、氧化鋁和膠體二氧化硅。注意平均大小和分布寬度的變化。


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圖 1. 平均大小與分布尾部



顯示的平均尺寸數(shù)據(jù)是使用 Nicomp® DLS 系統(tǒng)收集的。一個(gè)單獨(dú)的應(yīng)用說(shuō)明側(cè)重于測(cè)量CMP漿料的平均粒徑和zeta 電位。通常使用單顆粒光學(xué)傳感技術(shù)測(cè)量尾部。AccuSizer® 實(shí)驗(yàn)室和在線系統(tǒng)被漿料制造商、研究人員和世界各地的晶圓廠使用。



本應(yīng)用的重點(diǎn)是使用 AccuSizer 儀器系列對(duì) CMP漿料進(jìn)行實(shí)驗(yàn)室測(cè)量。實(shí)驗(yàn)室中用于測(cè)量CMP漿料LPC的模型包括 AccuSizer A7000 AD、AccuSizer A7000 APS 和 AcccuSizer A7000 FX Nano 系統(tǒng)。


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圖 2. LE400 傳感器和操作







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AccuSizer 系統(tǒng)組件


所有 AccuSizer 系統(tǒng)都包括一個(gè)傳感器、脈沖高度分析儀(計(jì)數(shù)器)和用于稀釋和傳輸樣品的流體。相同的 1024 通道計(jì)數(shù)器用于所有系統(tǒng),并執(zhí)行將來(lái)自傳感器的脈沖轉(zhuǎn)換為使用校準(zhǔn)曲線的顆粒大小和計(jì)數(shù)的任務(wù)。根據(jù)樣品要求選擇兩種傳感器型號(hào),LE400和 FX Nano。圖2中的LE400傳感器測(cè)量范圍為0.5–400 µm,并對(duì)通過(guò)系統(tǒng)的每個(gè)粒子進(jìn)行計(jì)數(shù),提供100%的計(jì)數(shù)效率。該傳感器使用準(zhǔn)直激光束以及光遮蔽和光散射檢測(cè)器來(lái)提供極寬的動(dòng)態(tài)范圍。濃度限制約為10,000個(gè)粒子/mL。圖3中的 FX Nano傳感器使用聚焦激光束僅在流通池的正中心進(jìn)行測(cè)量。由于聚焦光束和非唯1的脈沖與粒子大小的關(guān)系,該傳感器需要一種專(zhuān)有算法來(lái)將粒子脈沖轉(zhuǎn)換為大小。FX Nano傳感器可測(cè)量低至0.15 µm,并且可以測(cè)量更高的濃度(106個(gè)粒子/mL)。FX Nano 和 LE400 傳感器的組合提供 0.15–400 µm 的動(dòng)態(tài)范圍。



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圖 3. FX Nano 傳感器


有兩種稀釋流體選項(xiàng)可用于稀釋樣品、控制通過(guò)傳感器的流速以及在每次測(cè)量后沖洗以清潔系統(tǒng)。然后,軟件會(huì)在用戶(hù)選擇的多個(gè)尺寸通道中計(jì)算原始未稀釋樣品中的實(shí)際濃度。




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AccuSizer AD 系統(tǒng)

AccuSizer A7000 AD 系統(tǒng)是一種單級(jí)指數(shù)稀釋系統(tǒng),包含 LE 400 傳感器。AccuSizer A7000 AD 稀釋流體圖(未按比例)如圖4所示。



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圖 4. AccuSizer AD 系統(tǒng)


將樣品注入稀釋室并立即開(kāi)始稀釋。溶劑(去離子水)以相同的流速添加到腔室中,樣品通過(guò)傳感器抽取。監(jiān)測(cè)濃度,當(dāng)濃度低于傳感器的重合極限開(kāi)始測(cè)量。測(cè)量完成后,系統(tǒng)會(huì)自動(dòng)沖洗至可接受的背景水平。AccuSizer A7000 APS 系統(tǒng) AccuSizer A7000 APS 系統(tǒng)在單個(gè)系統(tǒng)中整合了單級(jí)和兩級(jí)稀釋流體。AccuSizer A7000 APS 兩級(jí)稀釋流路圖如圖 5 所示。


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圖5 AccuSizer A7000 APS 兩級(jí)稀釋流路圖


AccuSizer A7000 APS 系統(tǒng)可以在多種模式下運(yùn)行。在兩級(jí)稀釋中操作時(shí),樣品被吸入體積為 VL 的樣品定量環(huán)。當(dāng)樣品定量環(huán)注入體積為 V1 的稀釋室時(shí),稀釋的第一階段發(fā)生。稀釋的第一階段是 V1/VL。當(dāng)稀釋的樣品流 F1 與過(guò)濾水 FD 混合時(shí),會(huì)發(fā)生第二階段的稀釋。總流量 F 流經(jīng)傳感器進(jìn)行分析。這種方法允許在測(cè)量過(guò)程中保持穩(wěn)定的濃度。為了更好地顯示這兩種自動(dòng)稀釋方法(AccuSizer A7000 AD 與 APS 系統(tǒng))之間的差異,圖 6a 和 6b 顯示了數(shù)據(jù)收集過(guò)程中計(jì)數(shù)與時(shí)間的比較。


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圖6a  AccuSizer A7000 AD稀釋系統(tǒng)


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圖6b AccuSizer A7000 APS稀釋系統(tǒng)



注釋解讀:


X軸

采樣時(shí)間(以秒為單位)

左側(cè)Y軸

粒子計(jì)數(shù)/mL

紅線

計(jì)數(shù)/mL 與時(shí)間

右側(cè)Y軸

傳感器電壓

粉紅線

散射電壓

藍(lán)線

光阻電壓

灰色區(qū)域

稀釋時(shí)間

白色區(qū)域

測(cè)量時(shí)間


圖6a中的時(shí)間歷程圖來(lái)自在 AccuSizer A7000 AD 系統(tǒng)上測(cè)量的濃縮氧化鈰漿料。濃度(計(jì)數(shù)/毫升)開(kāi)始時(shí)非常高,在測(cè)量開(kāi)始前需要超過(guò) 120 秒的稀釋時(shí)間。然后在樣品仍被稀釋時(shí)進(jìn)行測(cè)量。圖 6b 中的時(shí)間歷程圖來(lái)自二氧化硅 CMP 漿料,其中濃度在序列開(kāi)始時(shí)是可接受的,但測(cè)量直到 30 秒平衡時(shí)間后才開(kāi)始。然后以穩(wěn)定的計(jì)數(shù)/毫升速率進(jìn)行測(cè)量。這種方法適用于 LPC 范圍內(nèi)計(jì)數(shù)率較低的樣品,以便收集的計(jì)數(shù)總數(shù)在統(tǒng)計(jì)上有效,以獲得準(zhǔn)確、可重復(fù)的結(jié)果。




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AccuSizer FX Nano 系統(tǒng)

AccuSizer A9000 FX Nano 系統(tǒng)是一種單級(jí)指數(shù)稀釋系統(tǒng),包含 LE 400 和 FX Nano 傳感器。稀釋流體與圖4 中所示的類(lèi)似,稀釋的發(fā)生類(lèi)似于 AccuSizer A7000 AD系統(tǒng)。樣品測(cè)量在三個(gè)范圍內(nèi)進(jìn)行。該系統(tǒng)首先使用低增益(.fyl)加上 LE400 范圍(.led) 的 FX Nano 傳感器收集數(shù)據(jù)。然后系統(tǒng)以高增益(.fyh)切換和測(cè)量FX Nano 傳感器。收集所有三個(gè)范圍后,所有三個(gè)結(jié)果文件被合并到一個(gè)文件(.fyc)中覆蓋整個(gè)動(dòng)態(tài)范圍。


AccuSizer A9000 FX Nano 系統(tǒng)非常適合在寬動(dòng)態(tài)范圍內(nèi)提供低至0.15µm 的靈敏度。一些非常干凈的膠體二氧化硅漿料最好使用 FX Nano 系統(tǒng)進(jìn)行分析,其中需要0.15 µm的靈敏度才能收集足夠的計(jì)數(shù)以達(dá)到統(tǒng)計(jì)上的有效性。該系統(tǒng)也在 Entegris 內(nèi)部用于測(cè)試 CMP漿料的過(guò)濾器保留。


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示例結(jié)果

在通過(guò) Entegris Planarcap® NMB 分配點(diǎn) CMP漿料過(guò)濾器過(guò)濾之前和之后,使用 AccuSizer A7000 AD 系統(tǒng)測(cè)量 KLEBOSOL™ 1501 膠體二氧化硅 CMP 漿料。上下游對(duì)比結(jié)果如圖 7 所示。



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圖 7. AccuSizer A7000 AD 系統(tǒng)過(guò)濾前(紅色)和過(guò)濾后


該圖清楚地顯示了通過(guò)過(guò)濾過(guò)程去除的以 0.85µm 為中心的 LPC 峰。AccuSizer A7000 AD 實(shí)驗(yàn)室系統(tǒng)可用于對(duì)傳入的 CMP 漿料進(jìn)行 QC 檢查,并可用作過(guò)濾研究的工具,以確定滿(mǎn)足給定漿料和工藝要求的最佳過(guò)濾器。使用以?xún)杉?jí)稀釋模式運(yùn)行的 AccuSizer A7000 APS 系統(tǒng)分析二氧化硅 CMP 漿料。圖8顯示了一個(gè)典型的結(jié)果,它是圖 6b 中顯示的運(yùn)行時(shí)數(shù)據(jù)的結(jié)果。圖8中的表格顯示了五個(gè)用戶(hù)選擇的尺寸范圍內(nèi)的顆粒濃度。該報(bào)告可以定制,以在被認(rèn)為對(duì)跟蹤 LPC很重要的范圍內(nèi)顯示和聚焦結(jié)果。顯示的濃度是稀釋前原始樣品中的實(shí)際濃度。提供多達(dá) 1024 個(gè)大小通道的完整表格,以及許多報(bào)告格式。


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圖 8. CMP AccuSizer 系統(tǒng) APS 結(jié)果


在內(nèi)部培訓(xùn)課程期間,在雙傳感器 AccuSizer A9000 FX Nano 系統(tǒng)上分析了氧化鋁 CMP 漿料。該樣品按1000:1 進(jìn)行預(yù)稀釋?zhuān)缓笫褂梅稚⒃?11.8 mL 容器體積中的 0.5 mL 樣品定量環(huán)進(jìn)行分析。每個(gè)測(cè)量范圍的 60 秒采樣時(shí)間為每次分析平均產(chǎn)生了大約200,000 個(gè)總粒子數(shù)。樣品由四位不同的 Entegris現(xiàn)場(chǎng)應(yīng)用工程師分析,四次獨(dú)立測(cè)量的結(jié)果如圖9 所示,Y 軸(濃度)以對(duì)數(shù)刻度顯示。


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圖 9. 氧化鋁 CMP 漿料 AccuSizer FX Nano 系統(tǒng)結(jié)果


這些獨(dú)立的結(jié)果顯示出較好的重現(xiàn)性。四個(gè)覆蓋層在 1 µm 以下基本上無(wú)法區(qū)分。10 µm 以上的變化是由于較大尺寸的統(tǒng)計(jì)數(shù)據(jù)較差。由于這些是在1000:1 預(yù)稀釋和流體指數(shù)稀釋后計(jì)算的實(shí)際樣品濃度值,10 µm 以上的變化可能來(lái)自單個(gè)粒子。



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結(jié)論

AccuSizer 實(shí)驗(yàn)室粒度和計(jì)數(shù)分析儀系列非常適合測(cè)試 CMP 漿料中的 LPC。AccuSizer 系統(tǒng)的優(yōu)勢(shì)包括最寬的動(dòng)態(tài)范圍(0.15 – 400 µm)、復(fù)雜的自動(dòng)稀釋流體、先進(jìn)的報(bào)告選項(xiàng)以及被 CMP 漿料制造商和晶圓廠最終用戶(hù)廣泛接受。Entegris 建議將漿料樣品發(fā)送到我們的應(yīng)用實(shí)驗(yàn)室進(jìn)行分析和審查,以便我們可以針對(duì)特定漿料和客戶(hù)要求推薦最佳系統(tǒng)配置。



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